ministar Typ N/H

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Das Prinzip:



Eine Kreiselpumpe fördert die Entwicklerlösung kontinuierlich im Kreislauf. Dabei wird die Ober- und Unterseite der fotobeschichteten Platte gleichmäßig umströmt. Dies gewährleistet eine ausgezeichnete Entwicklung über die gesamte Arbeitsfläche.


Eine Zwischenwand trennt das Spülabteil in eine Vorspüle und Klarspüle. Der Wasserdurchfluss kann exakt mittels Membranventil eingestellt werden. Damit wird ein guter Spüleffekt bei geringem Wasserverbrauch erreicht. Das Spülwasser muss zur Entfernung von Schwermetallen einer weiteren Behandlung zugeführt werden.


In die Ätzlösung wird Luft in feinst verteilter Form eingeblasen. Der entstehende Schaum wird über eine schiefe Ebene geleitet. Darüber ist die kupferkaschierte Platte angeordnet. Der Schaum benetzt und ätzt die Platte gemäß oben stehender Skizze. Leiterbahnabstände und -breiten von kleiner als 0,1mm werden problemlos erreicht.

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© Walter Lemmen GmbH 2004